1CS77.040.01H17B中华人民共和国国家标准GB/T19921一2005硅抛光片表面颗粒测试方法Test method of particles on silicon wafer surfaces2005-09-19发布2006-04-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布GB/T19921-2005引言硅抛光片表面颗粒沾污是影响半导体器件制造的重要因素，也是一个重要的材料验收参数。但是到目前为止，国际上还没有抛光片表面颗粒的测试方法标准，只有相关的几个专业标准。为满足我国硅材料的生产使用的需求，同时考虑到与国际相关标准的接轨，我们在对国际相关标准充分理解、吸收的基础上，综合我国硅材料的生产使用情况及国际上硅材料的生产和微电子产业的发展和现状编制了本标淮准。本标淮是一个硅抛光片表面颗粒测试的指导文件。从应用角度提出了对颗粒检测的环境、设备、校准及测量等方面的要求。
