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GB∕T 32484—2022 表壳体及其附件 气相沉积镀层.pdf

1、GB/T32484-2022/15016253:2017表壳体及其附件气相沉积镀层1范围本文件规定了通过气相沉积工艺获得的硬镀层的一般要求和试验方法,这种饿层主要用于改善外观,耐磨损及耐腐蚀性能和(或)提供防接触过敏保护。本文件适用于表壳体及其附件,2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件:不注目期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件,1S02819金属基体上的金属覆盖层电沉积和化学沉积层附着强度试验方法评述(Metalliccoatings on metallic substrat

2、es-Electrodeposited and chemically deposited coatings-Review of meth-ods available for testing adhesion)注:GB/T5270一2005金属基体上的金属厦盖层电沉积和化季沉积层附着强度试验方法评述(1S02819:1980,DT)ISO3160-】表壳体及其附件金合金覆盖层第1部分:一般要求(Watch-cases andaccessories-Gold alloy coverings-Part 1:General requirements)佳:GB/T38020.1一2019表壳体及其附件金

3、合金覆盖层第1部分:一般要求(1S03160-1:1998,M0D)IS031602表壳体及其附件金合金覆盖层第2部分:纯度、厚度、耐腐蚀性能和附着力的测(Wateh-cases and accessories-Gold alloy coverings-Part 2:Determination of fineness,thickness,corrosion resistance and adhesion)注:GB/T38020.2一2019表壳体及其附件金合金覆盖层第2部分:纯度,厚度,耐%蚀性能和附着力的测试(1S03160-2:2015,M0D)ISO8654首饰金合金颜色定义,颜色范围和

4、命名(Jewellery一Colours of gold alloys一Def-nition,range of colours and designation)ISO9227人造气氨腐蚀试验盐雾试验(Corrosion tests in artificial atmospheres-一Salt spraytests)注:GB/T10125一2021人造气銀陶独试验盐雾试验(1S09227:2017,M0D)IS023160表壳体及其附件耐帝损,划伤和冲击试验(Watch cases and accessories-一Tests ofthe resistance to wear,scratchi

5、ng and impacts)注:GB/T33725一2017表壳体及其附件耐密制.划伤和神击试验(1S023160:2011,M0D)1S027874金属及其他无机覆盖层电气、电子和工程用金和金合金电艘层技术规范和试验方(Metallic and other inorganie coatings-Electrodeposited gold and gold alloy coatings for electrical,electronic and engineering purposes-Specification and test methods)注:GB/T34625一2017金属及其他无

6、机覆盖层电气,电子和工程用金和金合金电镀层技术规范和试羚方祛(1S027874:2008,M0D)EN1811长期直接与皮肤接触的物品以及插人人体刺穿部位的所有组件的镍释放量参考试验方1GB/T32484-2022/1S016253:2017(Reference test method for release of nickel from all post assemblies which are inserted into piercedparts of the human body and articles intended to come into direct and prolonge

7、d contact with the skin)EN12472涂层部件镍释放量的检测用加速警损和衡蚀的模拟方法(Method for the simulationof accelerated wear and corrosion for the detection of nickel release from coated items)3术语和定义下列术语和定义适用于本文件,3.1气相沉积镀层vapour phase deposited coating原子通过气相从源转移到基体沉积而形成的镀层。注:转移可能是纯物理的(PVD,物理气相沉积),也可能通过化学反应(CVD:化学气相沉积)来完成。可

8、能通过注人括性气体用气相转移形成化合物,如南瓷。3.2离子镀ion plating基体和成长层持续接受高能粒子撞击,通常是将来自辉光放电等离子体的离子加速到偏压基体的镀层工艺,3.3避射sputtering受到来自辉光放电等离子体气态离子撞击后,从靶材(阴极)表面喷射出的原子沉积在基体的镀层工艺3.4硬镀层hard coating由硬度值超过10O0HV(维氏硬度)的硬质材料如氮化钛(TN)或碳化钛(TiC)覆盖的镀层。4要求4.1镀层4.1.1外观镀层的外观应按附录A中规定的方法和条件来检查。零件有效表面的镀层不应出现有害的缺陷或任何有码使用的缺陷迹象,如镀层脱皮、颜色不均、粗糙,裂缝、麻点,基体材料的暴露和任何无法去除的污点。注:“有效表面的定义见GB/T38020.1.4.1.2厚度镀层的厚度依照供需双方间的协议来规定,镀层的厚度应按5,3中规定的方法之一进行测试,且有效表面上的镀层厚度应符合规定的厚度,4.1.3附着力镀层的附着力应按5.4中规定的方法之一进行测试,且镀层不应出现附着力缺陷(如脱皮或起泡等)的迹象,2

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