1、GB/T26332.1-2010/1S09211-1:1994光学和光学仪器光学薄膜第1部分：定义1范围GB/T26332的本部分叙述了除眼科光学（眼镜）之外的所有镀膜的光学元器件及基片的镀膜表面，并制定了相关参数的标淮表述，定义了表面特性参数及其检验、检测方法，而不说明其加工方法。本部分定义了与光学薄膜相关的术语。这些术语分为4类：基本定义、按功能定义薄膜、常见的薄膜缺陷定义和其他定义，2规范性引用文件下列文件中的条款通过GB/T26332的本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括劫误的内容）或修订版均不适用于本部分，然而，鼓励根据本部分达成协议的各方
2、研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本部分。GB/T1185一2006光学零件表面疵病(1S010110-7:1996,NEQ)GB3102.6一1993光及有关电磁辐射的量和单位GB/T8322一2008分子吸收光谱法术语(1IS06286:1982,NEQ)1S09211-4:2006光学和光学仪器光学薄膜第4部分：规定的试验方法1S010110-8:1997光学和光学仪器光学元件和系统制图准备第8部分：表面结构IEC50(845):1987国际电工词汇845章：照明CIE Publication38:1977材料的辐射测量和光度特性及相应测量方法3术
3、语和定义下列术语和定义适用于本部分，3.1镀膜表面surface treatment3.1.1元件和基片的镀膜表面surface treatment of components and substrates在光学元件表面“镀膜”，能够改变光学元件的光学、物理或化学特性。作为所镀薄膜载体的光学元件称为“基片”。理想的基片是儿何完美和光学均质的，应将基片及其表面作为一个整体进行检脸测量。光在镀膜表面的透射与反射方向是由光学薄膜、人射介质及出射介质共同决定的。3.1.2入射介质incident medium光射人薄膜前经过的介质。3.1.3出射介质emergent medium光射出薄膜后进入的介质。注：镀有薄膜的基片可以是入射介质也可以是出射介质，区别在于光通过基片和博膜的先后顺序。
