1、GB/T42274-2022氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定二次离子质谱法1范团本文件描述了氨化铝单品中痕量镁和傢含量及分布的二次离子质谱测试方法。本文件适用于氨化铝单品中痕量镁和傢含量及分布的定量测定，测定范围为镁、傢的含量均不小于110scm-3,元素含量（原子个数百分比）不大于1%。注：氨化铝单品中待测元素的含量以每立方厘米中的原子个数计，2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件，不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。GB/T14264半导体材料术语GB/
2、T22461表面化学分析词汇GB/T25186表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子GB/T32267分析仪器性能测定术语3术语和定义GB/T14264,GB/T22461,GB/T25186、GB/T32267界定的术语和定义适用于本文件。4方法原理在高真空（直空度优于10-？P)条件下，氧离子源产生的一次离子，经过加速、纯化、聚焦后，轰击氮化铝样品表面，溅射出多种粒子，将其中的二次离子引出，通过质谱仪将不同质荷比的离子分开，记录样品中待测元素“Mg、”G和基质元素”A1的离子计数率之比。利用相对灵敏度因子定量分析并计算出氨化铝单品中待测元素的含量。5干扰因素5.1样品表面吸附的镁和稼可能影响其含量的测试结果，整个操作过程中应避免样品与外界过多的接触，在放入腔体前用干燥氨气吹净。5.2二次高子质谱仪存在记忆效应，若测试过镁和傢含量较高的样品，仪器样品腔内可能会残留镁和傢，影响镁和镓含量的测试结果。5.3仪器型号不同或者同一仪器的状态（例如一次离子束的束流密度、聚焦状态、电子倍增器效率、视场光阑以及对比光阑大小、分析控真空度等)不同，会影响本方法的检出限。
