1、GB/T20176-2006/1S014237:2000表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度1范围本标淮详细说明了用标定的均匀摻杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀摻杂硼浓度范围从1101“atoms/cm3110”atoms/cm3。2规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。IS05725-2:
2、1994测量方法和结果的准确度（真实性和精密度）第2部分：标准测量方法重复性和再现性确定的基本方法3原理氧或铯离子束撞击到样品表面并对发射出的硼和硅的二次离子进行质量分析和检测。用均匀掺杂的二级参考物质（经离子注入原始参考物质校准过的）作为工作参考物质。4参考物质4.1原始参考物质原始参考物质用于确定二级参考物质中硼的原子浓度。原始参考物质应是一种硅中注硼的已标定参考物质(certified reference material,.CRM)。注：美国国家标准和技术研究院(National Institute of Standards and Technology,NlST)的标准参考物质213
3、7(NIST Standard Reference Material2137,以下称为NIST SRM)是当前唯一指定的硅中硼已标定参考物质，4.2二级参考物质4.2.1二级参考物质用于确定各测试样品中硼的原子浓度。至少应有一块摻硼和一块不摻硼的参考物质用于日常分析。推荐用另两块不同硼摻杂水平的参考物质来确定仪器的性能（见附录C)。4.2.2二级参考物质（以下称为体参考物质）是单品硅片或外延层厚度约为100m的外延硅片，且应该用具有天然同位素比的硼均匀摻杂。4.2.3应该获得具有硼原子浓度介于11016 atoms/cm3110”atoms/cm3间的硼摻杂品片。推荐使用表1给出的3种摻杂水平。如果仅用一种水平，应选择RM-B或R-C。还应有一块不掺硼的品片用于检测本底。应选择硼浓度变化率较小的晶片，硼浓度变化率每厘米应小于5%。注：近似册原子浓度可从品片电阻常得到的载流子浓度确定。电阻率测量的步骤和电阻率与载流子浓度间转换的步景见附录A。
